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527 - 532nm, 25.4mm Dia., Ultrafast Laser Line Mirror

Stock #85-104
€149,00
Cant. 1-5
€149,00
Cant. 6
€135,00
Precio por Volumen
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Design Wavelength DWL (nm):
530
Wavelength Range (nm):
527 - 532
Diameter (mm):
25.40 +0.0/-0.1
Angle of Incidence (°):
45
Reflection at DWL (%):
99
Damage Threshold, Pulsed:
1000-on-1: >0.25 J/cm2 @ 800nm, 100fs, 100Hz
Thickness (mm):
5.00
Thickness Tolerance (mm):
±0.1
Substrate:
Fused Silica
Style:
Ultrafast
Type:
Laser Mirror
Coating Type:
Dielectric
Coating Specification:
Ravg >99% @ 527 - 532nm
Surface Flatness:
λ/8
Back Surface:
Commercial Polish
Clear Aperture (%):
>90
Coating:
Ultrafast (527-532nm)
Durability:
MIL-C-675A
Parallelism (arcmin):
<1
Surface Quality:
20-10
Typical Applications:
Yb Doped 2nd Harmonic

Regulatory Compliance

Product Family Description

  • Reflectancia superior al 99%
  • Opciones disponibles entre 266nm - 1550nm
  • Baja GDD

Los Ultrafast Laser Line Mirrors están diseñados para aplicaciones que utilizan láseres de femtosegundo Er: Glass, Ti: Sapphire o Ytterbium-doped. Estos espejos están optimizados para una máxima reflexión en amplios rangos de longitud de onda, equilibrando la dispersión de velocidad del grupo en los materiales de recubrimiento para producir la menor Group Delay Dispersion (GDD). Los Ultrafast Laser Line Mirrors están diseñados para ángulos de incidencia de 0 ° y 45 ° y son ideales para aplicaciones de dirección de haz.

Nota: póngase en contacto con nosotros para obtener versiones modificadas de los espejos (longitud de onda, ángulo, tamaño).

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